Les informations des propriétés sur ce site proviennent des inscriptions Royal LePage et du service de distribution de données de l'Association canadienne de l’immeuble (SDD). SDD mets en référence des inscriptions tenues par des agences immobilières autres que Royal LePage et ses distributeurs. L'exactitude de l'information n'est pas garantie et devrait être indépendamment vérifiée.
Vous recherchez un condo, une maison de ville ou un logement à Québec? Synchro est une entreprise de développement immobilier qui œuvre principalement dans le domaine résidentiel. Travaillant en étroite collaboration avec les concepteurs des projets, Synchro accorde beaucoup d’importance à la qualité des projets, autant au point de vue architectural que constructif. Étant une entreprise ambitieuse, Synchro s’implique dans des projets innovateurs et révolutionnaires, comme des projets résidentiels en structure de bois massif.
Près de tous les services, ce secteur est tout désigné pour les jeunes familles souhaitant se rapprocher de la nature et profiter d'un grand terrain. Les terrains dans cette phase offrent une superficie variant entre 5 000 et 10 000 pieds carrés. Certains terrains sont même sans voisin à l'arrière, ce qui offre une belle intimité. En plus d'un accès facile à l'autoroute 73, vous y trouverez épicerie, pharmacie, café, restaurants, bar, salle d'entraînement, école primaire, clinique dentaire et transport collectif de la Jacques-Cartier. Les amateurs de plein air seront heureux d'avoir tout près la station de ski et le golf Stoneham ainsi que le mont Wright, idéal pour la randonnée pédestre. Il ne manque plus que vous et votre toit.
Ensuring that this enhanced within-chip etch precision extends across the entire wafer, the Centris Sym3 system has been comprehensively redesigned for True Symmetry™ of power, gas delivery, and thermal characteristics necessary. In addition, improvements to Pulsync™ increase the effectiveness of synchronized plasma pulsing to minimize pattern loading. Users can enhance further performance with optional dual frequency bias that facilitates the etching of challenging high aspect ratio features.
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