To achieve the tight degree of within-chip etch control needed for such precise patterning, the new system creates a dramatically cleaner chamber environment that significantly accelerates the removal of etch byproducts—a major cause of variation. Both larger chamber volume and higher gas flows minimize the amount of byproduct that redeposits on the wafer, where it can pinch off narrow spaces and create etch depth variations, cause unacceptable variations between densely packed and isolated features, or exacerbate line edge roughness. Preventing byproduct accumulation also reduces particle formation and resultant defect creation.
Construire ou rénover sa maison est un grand projet de vie. C'est pourquoi votre maison doit répondre à vos besoins et afficher un style qui vous ressemble. Que vous ayez des idées de grandeur, recherchiez une maison pleine de panache ou élégamment dessinée, F. Audet Construction a ce qu'il vous faut. Que vous souhaitiez obtenir un plan d'aménagement maximisant l'espace ou limiter l'entretien avec une maison plus petite, mais néanmoins jolie et fonctionnelle, F. Audet Construction a une fois de plus ce qu'il vous faut. Pour avoir une maison à votre image, vous êtes à la bonne adresse.
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